中國專利法規(guī)要求,申請專利的發(fā)明創(chuàng)造包括發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計,專利申請符合專利法所規(guī)定的新穎性、創(chuàng)造性、實用性要求的,依法授予專利權(quán)。 從申請之日起,中國發(fā)明保護20年,實用新型及外觀設(shè)計保護10年。 發(fā)明專利包括初審和實審兩個程序,一個流暢的發(fā)明專利從申請到授權(quán)或駁回,大約需要2年到3年時間; 一個流暢的實用新型專利從申請到授權(quán)或駁回,大約需要8個月到10個月時間; 一個流暢的外觀設(shè)計專利從申請到授權(quán)或駁回,大約需要6個月到8個月時間。
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一、發(fā)明專利的介紹 1、《專利法》所稱的發(fā)明,是指對產(chǎn)品、方法或者其改進所提出的新的技術(shù)方案。 2、《專利法》規(guī)定對違反法律、社會公德或者妨害公共利益的發(fā)明創(chuàng)造,不授予......【詳細(xì)】
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一、實用新型專利介紹 1、《專利法》所稱的實用新型,是指對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案。 2、《專利法》規(guī)定對違反法律、社會公德或者妨害公共......【詳細(xì)】
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一、外觀專利介紹 1、《專利法》所稱的外觀設(shè)計,是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計。 2、《專利法》規(guī)定對......【詳細(xì)】
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1.集成電路布圖設(shè)計保護客體 集成電路布圖設(shè)計是指:集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置,或者為制造集成電路而準(zhǔn)備的上述三維配......【詳細(xì)】